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NdGaO3(镓酸钕)晶体
发布时间:1970-01-01 00:00:00 浏览次数:315
产品介绍:
NdGaO3是近十年中发展起来的新型基片,主要用作高温超导体(如YBCO)及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很小(~0.27%),且无结构相变,在NdGaO3基片上可外延生长质量良好的薄膜。
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产品名称 镓酸钕(NdGaO3)晶体基片 技术参数 晶体结构:正交晶系 晶格常数:a=5.43 Å b=5.50
Å c=7.71Å 密度:7.57 g/cm3 熔点:1600 °C 硬度:5.9 Mohs 介电常数:<20在300k 生长方法:提拉法 产品规格 常规晶向: 、、、 公差:±0.5° 常规尺寸:10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm,5x5x0.5mm 抛光情况:单抛 、双抛粗糙度:<5A 注:可根据客户需求提供特殊的尺寸和方向; 晶体缺陷 人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷 标准包装 1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装
晶体材料咨询电话:199-5653-2471王经理
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