设备简介：
NBD-CVD系列高温炉整体采用国际先进制造工艺，并且从美学艺术角度出发，根据人体安全的角度进行设计。
控制数学模型采用先进的PID自学习模糊控制，使控温精度保持在±1℃。经过长期多次的各种试样实验验证，几乎可以适用于所有类型材料的焙烧。

设备简介：
迷你管式炉是用于各种材料热处理的实验设备。主要行业有稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造等，主要应用于真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。

设备简介
诺巴迪智能滑膛式氢气还原炉，主要为高等院校、科研院所及工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料在气氛及真空状态下进行烧结、融化、分析而研制的专用设备。
本设备主要由可滑动炉膛、不锈钢快开反应腔、液体气相供气系统、高真空分子泵机组及气体安全保护系统等组成。控制系统采用先进的PLC加触摸屏操控系统，及多重保护功能设计，最大程度保证操作人员和设备的安全，系统功能高度集成，可便捷直观地通过触屏人机交互系统进行实验操作。
系统预设了干氢烧结、湿氢烧结、低真空烧结、高真空烧结及保护气氛烧结五种自动烧结模式，亦可根据工艺要求进行选择；整个实验过程全自动控制，烧结结束，自动移开炉膛(以实现物料的快速降温)，并在设定温度下自动断开所通入的气体，完成整个实验流程。

设备简介：
迷你搅拌烧结管式炉适用于各种材料热处理的实验设备。主要行业有稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造等，主要应用于真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。

设备简介：
快速退火炉简称 RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），不但拥有非常快的升温速率，而且在烧结工艺运行完结后，直接将试样移动至室温下，实现物理状态下的快速降温。设备采用了内管进气、外管出气的气路结构，使得反应气氛与加工样品充分而均匀地接触。退火炉是CVD法生长大尺寸二维石墨烯的常用设备。测温元件直接和试样接触，保证试样温度的准确性。

设备简介：
PECVD（等离子增强化学气相沉积）技术是借助于等离子体的辉光放电使得含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜生长的一种制备技术，主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉积；高温炉采用的是高纯硅碳棒加热的原理，可以实现高温烧结，适用于大多数材料的热处理以及熔炼工艺，整体采用国际先进制造工艺，并且从美学艺术角度出发，根据人体安全的角度进行设计。它采用PLC控制，触摸屏操作。