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MgO（氧化镁）晶体
发布时间：2024-4-11 13:52:22 浏览次数：211
MgO晶体
氧化镁（MgO）是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。我司可提供高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的MgO单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。
产品名称
氟化镁(MgF2)晶体基片
技术参数
晶体结构：四方晶系
晶格常数：a=4.62Å c=3.04Å
密度：3.18 g/cm3
熔点：1255 °C
硬度：6 mohs
热膨胀系数：13.7×10-6/℃
折射率：no=1.3836 ne=1.3957
透光波长：110-7500nm
透过率:>93% @5μm ； >85% @ 0.2μm
温度系数( dh / dt x 10-6 )2.3 ~1.7 @
0.4 m
生长方法：坩埚下降法
产品规格
常规晶向：
常规尺寸： 10x10x0.5mm；10x5x0.5mm、5x5x0.5mm
抛光情况：单抛、双抛、细磨
抛光面粗糙度：< 15A
注：可按客户要求定制方向和尺寸。
晶体缺陷
人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。
标准包装
1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装
晶体材料咨询电话：199-5653-2471王经理
MgO晶体
氧化镁（MgO）是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。我司可提供高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的MgO单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。
产品名称
氟化镁(MgF2)晶体基片
技术参数
晶体结构：四方晶系
晶格常数：a=4.62Å c=3.04Å
密度：3.18 g/cm3
熔点：1255 °C
硬度：6 mohs
热膨胀系数：13.7×10-6/℃
折射率：no=1.3836 ne=1.3957
透光波长：110-7500nm
透过率:>93% @5μm ； >85% @ 0.2μm
温度系数( dh / dt x 10-6 )2.3 ~1.7 @
0.4 m
生长方法：坩埚下降法
产品规格
常规晶向：
常规尺寸： 10x10x0.5mm；10x5x0.5mm、5x5x0.5mm
抛光情况：单抛、双抛、细磨
抛光面粗糙度：< 15A
注：可按客户要求定制方向和尺寸。
晶体缺陷
人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。
标准包装
1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装
晶体材料咨询电话：199-5653-2471王经理
MgO晶体
氧化镁（MgO）是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。我司可提供高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的MgO单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。
产品名称
氟化镁(MgF2)晶体基片
技术参数
晶体结构：四方晶系
晶格常数：a=4.62Å c=3.04Å
密度：3.18 g/cm3
熔点：1255 °C
硬度：6 mohs
热膨胀系数：13.7×10-6/℃
折射率：no=1.3836 ne=1.3957
透光波长：110-7500nm
透过率:>93% @5μm ； >85% @ 0.2μm
温度系数( dh / dt x 10-6 )2.3 ~1.7 @
0.4 m
生长方法：坩埚下降法
产品规格
常规晶向：
常规尺寸： 10x10x0.5mm；10x5x0.5mm、5x5x0.5mm
抛光情况：单抛、双抛、细磨
抛光面粗糙度：< 15A
注：可按客户要求定制方向和尺寸。
晶体缺陷
人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。
标准包装
1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装
晶体材料咨询电话：199-5653-2471王经理
MgO晶体
氧化镁（MgO）是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。我司可提供高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的MgO单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。
产品名称
氟化镁(MgF2)晶体基片
技术参数
晶体结构：四方晶系
晶格常数：a=4.62Å c=3.04Å
密度：3.18 g/cm3
熔点：1255 °C
硬度：6 mohs
热膨胀系数：13.7×10-6/℃
折射率：no=1.3836 ne=1.3957
透光波长：110-7500nm
透过率:>93% @5μm ； >85% @ 0.2μm
温度系数( dh / dt x 10-6 )2.3 ~1.7 @
0.4 m
生长方法：坩埚下降法
产品规格
常规晶向：
常规尺寸： 10x10x0.5mm；10x5x0.5mm、5x5x0.5mm
抛光情况：单抛、双抛、细磨
抛光面粗糙度：< 15A
注：可按客户要求定制方向和尺寸。
晶体缺陷
人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。
标准包装
1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装
晶体材料咨询电话：199-5653-2471王经理
MgO晶体
氧化镁（MgO）是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。我司可提供高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的MgO单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。
产品名称
氟化镁(MgF2)晶体基片
技术参数
晶体结构：四方晶系
晶格常数：a=4.62Å c=3.04Å
密度：3.18 g/cm3
熔点：1255 °C
硬度：6 mohs
热膨胀系数：13.7×10-6/℃
折射率：no=1.3836 ne=1.3957
透光波长：110-7500nm
透过率:>93% @5μm ； >85% @ 0.2μm
温度系数( dh / dt x 10-6 )2.3 ~1.7 @
0.4 m
生长方法：坩埚下降法
产品规格
常规晶向：
常规尺寸： 10x10x0.5mm；10x5x0.5mm、5x5x0.5mm
抛光情况：单抛、双抛、细磨
抛光面粗糙度：< 15A
注：可按客户要求定制方向和尺寸。
晶体缺陷
人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。
标准包装
1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装
晶体材料咨询电话：199-5653-2471王经理
- {{item.cat}}
- {{item2.cat}}
- {{ isExpanded[index2] ? '收起' : '更多' }}