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LaF3 (氟化镧)晶体基片
发布时间: 1970-01-01 00:00:00 浏览次数:330
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产品名称 LaF3晶体基片 技术参数 晶体结构:三方晶系 晶格常数: a=7.190
Å c=7.367 Å 纯度:99.99% 密度:5.936 g/cm3 硬度:4.5 Mohs 熔点:1493℃ 生长方向: 热膨胀系数:11.9 x10-6/ K // c
15.8 x10-6/ K // a 热导率:5.1 W / m.k @ 300K 光传输范围:Up to 10.5 micron
wavelength 折射率 no : 1.63 ne:
1.597 生长方法:提拉法 产品规格 常规晶向: 、、 常规尺寸:10x10x0.5mm 抛光情况:单抛、双抛 标准包装 1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装 晶体缺陷 人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。
晶体材料咨询电话:199-5653-2471王经理
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