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InAs(砷化铟)晶体基片

发布时间: 2024-03-30 14:20:13    浏览次数:400


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产品名称

砷化铟(InAs)晶体

技术参数

晶体结构:立方晶系

晶格常数:a=5.4505 Å

掺杂类型:不掺杂

导电类型:N

载流子浓度:2 ~ 5E16 / cm3

迁移率:>18500cm2/V.S

生长方法:CZ

产品规格

常规晶向:

常规尺寸:2"x0.5mm  10x10x0.5mm

抛光情况:单抛 双抛

表面粗糙度:<15A

注:尺寸及方向可按照客户要求定做。

晶体缺陷

人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。

标准包装

1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装。



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