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GaN(氮化镓)晶体

发布时间:1970-01-01 00:00:00  浏览次数:382

产品介绍:

GaN晶体氮化镓是氮和镓的化合物,是一种直接能隙的半导体,由于具有化学稳定性好、热传导性能优良、击穿电压高、大功率,近年在光电子领域和高温高频电子应用备受关注,是目前最优秀的半导体材料。


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产品名称:

GaTe 单晶基片

技术参数:

电阻率:N/A

产品规格;

晶向:(0001)

尺寸:10x10x1.0mm

抛光情况:抛光,自然解理面

:可按客户要求定制方向和尺寸

标准包装

标准包装:1000 级超净室,100级超净袋

产品名称

氮化镓(GaN)晶体基片

技术参数

晶体结构:六方晶系

晶格常数a= 3.186 Å ,  c = 5.186 Å

传导类型:N型掺SiN型不掺杂

可用表面积:>90%

位错密度:(5-9x105Ω.cm

电阻率:R<0.05 Ω.cmR<0.1Ω.cm

介电常数:8.9

TTV:≤15um

密度:6.15g/cm3

生长方法:HVPE(氢化物气相外延法)

产品规格

常规晶向: (0001)

常规尺寸:10.5x10x0.35mm5x5x0.35mm

表面粗糙度:<5Å

注:尺寸可按照客户要求定做。

晶体缺陷

人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。

标准包装

1000级超净室100级超净袋或单片盒装

晶体材料咨询电话:199-5653-2471王经理






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