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GaN(氮化镓)晶体
发布时间:1970-01-01 00:00:00 浏览次数:382
产品介绍:
GaN晶体氮化镓是氮和镓的化合物,是一种直接能隙的半导体,由于具有化学稳定性好、热传导性能优良、击穿电压高、大功率,近年在光电子领域和高温高频电子应用备受关注,是目前最优秀的半导体材料。
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产品名称: GaTe 单晶基片 技术参数: 电阻率:N/A 产品规格; 晶向:(0001) 尺寸:10x10x1.0mm 抛光情况:抛光,自然解理面 注:可按客户要求定制方向和尺寸 标准包装 标准包装:1000 级超净室,100级超净袋 产品名称 氮化镓(GaN)晶体基片 技术参数 晶体结构:六方晶系 晶格常数a= 3.186
Å , c = 5.186 Å 传导类型:N型掺Si;N型不掺杂 可用表面积:>90% 位错密度:(5-9)x105Ω.cm 电阻率:R<0.05 Ω.cm;R<0.1Ω.cm 介电常数:8.9 TTV:≤15um 密度:6.15(g/cm3) 生长方法:HVPE(氢化物气相外延法) 产品规格 常规晶向: (0001) 常规尺寸:10.5x10x0.35mm、5x5x0.35mm 表面粗糙度:<5Å 注:尺寸可按照客户要求定做。 晶体缺陷 人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。 标准包装 1000级超净室100级超净袋或单片盒装
晶体材料咨询电话:199-5653-2471王经理
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