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五温区CVD一体机
发布时间： 1970-01-01 00:00:00 浏览次数：719
设备简介：
化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；
CVD系统一体炉，供气和真空系统灵活组合，满足各类薄膜沉积，在半导体工业中应用非常广泛。包括沉积大面积的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。诺巴迪成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
| 设备特点： 1、控制稳定可靠，操作方便。 2、采用先进的PID自学习模糊控制，控温精度高，保持在±1℃。 3、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料，保温效果更好，节能降耗。 4、数据存储功能，可保存烧结的重要参数，时长达30天之久（每天开机8小时）。 5、配方功能，可预存配方100条以上。 6、五个温区独立控制，使客户烧结工艺更加复杂多样。 7、联网功能，通过RJ45接口，采用TCP/IP协议，可以让系统与上位机相连（上位机需安装相应软件）。 | ||||||
产品型号 | NBD-T1200-100T5G4F | ||||||
供电电源 | 三相380V 50HZ | ||||||
额定功率 | 10KW | ||||||
测温元件类型 | K型热电偶 200mm | ||||||
最高温度 | 1150℃ | ||||||
加热温区尺寸 | Φ150*1135mm | ||||||
炉管尺寸 | Φ100*1600mm | ||||||
炉体尺寸 | 长1900*高1250*深900mm | ||||||
推荐升温速率 | 10℃/min | ||||||
重量 | 350kg | ||||||
设备细节 |  | ||||||
控制系统 |
| 1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置； | |||||
温度精度 | ±1℃ | ||||||
流程控制画面 |  | ||||||
服务支持 | 1年质保，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如炉管和O形圈等） | ||||||
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