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均温氧化扩散炉 (Ⅰ型)
发布时间: 2020-08-26 00:06:27 浏览次数:4192
设备简介:
均温氧化扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸。
| 设备特点: 1.温场均匀,恒温区长度及精度:300~1250mm 800~1200℃±1℃ 2.具有强大的软件功能,NBD-101EP嵌入式操作系统,用户可以方便地修改工艺控制参数,并可随时显示各种工艺状态;配有故障自诊断软件; 6.可存储多组PID参数供系统运行调用功能,具有多点温度补偿 | ||||||
型号 | T1200-250T3均温炉氧化扩散 | ||||||
可配工艺管外径 | 炉管外径152mm 适用于3";炉管外径252mm 适用于6"; 炉管外径300mm 适用于8" | ||||||
温度控制范围 | 300~1150 ℃ | ||||||
恒温区长度及精度 | 300~1250mm(依客户要求定) 300~800 ℃±1.5℃, 800~1100 ℃±1℃ | ||||||
可控升降温速率 | 升温速率:≦15℃/min 降温速率≦5℃/min | ||||||
加热区个数 | 3区,4区,5区,6区(依客户要求定) | ||||||
送料方式 | 手动送料 | ||||||
冷却系统 | 水冷2-4Kgf/cm2,8L/min;+上接排风冷≈25m3/min; | ||||||
轴向温场分布 |
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径向温场分布 |
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控制系统 | 1.烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置; 2.可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结; 3.实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录; 4.具有实现远程操控,实时观测设备状态; 5.温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正 |
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加热腔体 |
| 采用优质加热丝:KANTHAL及HRE 绝热材料:晶体纤维等 绝缘子:高纯刚玉,间距依据温场调节 端口过渡环:氧化铝纤维真空成型。 温区:3段、4段、5段、6段
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真空密封系统 |
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真空度:≤10Pa(机械泵) | |||||||
供气系统 |
| 采用质子流量计控制气体流速,与设备集成为一体; | |||||
可选配项目 | 1、出料口排毒气柜; 2、净化出料台; 3、自动石英浆推拉舟机构 | ||||||
设备使用注意事项 | 1、装取样片必须带石棉手套,使用石英器件小心打碎; 2、选择合适的石英舟,取出清洁好的石英托板和石英拉钩; 3、安装样片插入到石英舟的槽内,用石英拉钩将石英舟推入炉管到恒温区; 4、炉管内压力不得超过0.15MPa(绝对压力),以防止压力过大引起危险; 5、高真空下使用时),设备使用温度不得超过1000℃; | ||||||
服务支持 | 一年有限保修,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如炉管和密封圈等) |
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