设备简介：

可用于高通量烧结，最高温度1200℃。每个加热模块都由独立的温控系统控制，每个炉管采用真空法兰密封，可同时放入6个样品,在真空或保护气氛环境下进行不同温度的热处理，占地小，能耗低，对于在材料基因计划中探索材料相图是非常好的实验工具。